中国专利保护协会

关于邀请参加商标五局合作和外观设计五局合作会议的通知

2019.10.31

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各企事业单位：

2019年商标五局合作（简称TM5）用户会议和外观设计五局合作会议（简称ID5）将于2019年12月在日本千叶县东京湾喜来登大酒店举办。受国家知识产权局委托，中国专利保护协会特邀请中国企事业单位代表参会，具体事项通知如下：

一、会议时间

TM5会议：2019年12月11日

ID5会议：2019年12月13日

二、会议地点

日本千叶县东京湾喜来登大酒店（地址：1-9 Maihama, Urayasu Chiba 279-0031）

三、会议内容

TM5用户会议：介绍五局闭门会议情况、各局向用户介绍质量管理措施、局方和用户就用户满意度调查、审查员沟通以及加快审查3个主题进行小组讨论及总结汇报。

ID5用户会议：介绍五局闭门会议情况、2019年合作项目成果介绍、各局最新进展及产业界就建立更加高效的外观设计保护系统提出需求。

更多内容详见附件2、3日程草案

四、会议语言

本次会议将提供同声传译。

五、报名须知

拟报名人员请填写附件1的报名表，并于11月10日前发送至保护协会。

联系人：王伟

电  话：010-62159161

邮  箱：wangwei@ppac.org.cn

六、其他说明

1. 本次会议参会人员费用自理

2. 如需办理商务签证，协会可协助办理邀请函等事宜。

特此通知

                                                                          中国专利保护协会

                                                                            2019年10月31日

• 1.ID5年度会议用户环节日程草案(英文)


• 2.TM5年度会议用户环节日程草案(英文)


• 3.产业界代表报名表


• 4.中专协发〔2019〕044号关于邀请参加商标五局合作和外观设计五局合作会议的通知