中国专利保护协会

关于报名参加2021年中日韩商标和外观设计论坛的通知

2021.05.27

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各企事业单位：

为加强中日韩知识产权国际交流与合作，便利广大中国知识产权从业者和用户更好地了解中日韩三局知识产权领域法律法规最新发展，中国国家知识产权局、日本特许厅、韩国知识产权局定于6月30日举行2021年中日韩商标和外观设计论坛。受国家知识产权局外观设计审查部委托，我协会拟组织中国企事业代表参会，现将有关事项通知如下：

一、会议主题及议程

本次会议主题为“数字经济下的商标和外观设计保护”，会议议程见附件1。

二、参会人员

中国国家知识产权局、日本特许厅、韩国知识产权局商标、外观设计领域的专家，三方产业界代表，以及国际商标协会和新加坡知识产权局的专家。

三、时间、地点

时间：北京时间6月30日下午13:30-17:00。

地点：在线举办（ZOOM平台）

四、会议费用

免费参加，名额有限，报满为止，以我协会回复报名成功为准。

五、报名须知

1.会议具体访问网址将另行通知。

2.为切合会议主题，拟参会人员应与“数字经济”有关。

3.请拟参会人员填写参会报名表（见附件2）并于6月11日前发送至协会邮箱（wangwei@ppac.org.cn），中英文均需填写。

4.本次会议设置有问答环节，如需提问，请在报名表上的“会上拟提的问题”一栏中填写。

5.本次会议提供同传。

特此通知。

                                       

 

                          中国专利保护协会

                          2021年5月26日

 

 

联系人：王伟

电  话：010-62159161，18510255731

邮  箱：wangwei@ppac.org.cn 

• 1.2021年中日韩商标和外观设计论坛议程


• 2.产业界代表报名表及问题单