中国专利保护协会

各企事业单位：

国家知识产权局与日本特许厅定于2023年11月2日（星期四）在日本东京举办第10次中日知识产权制度研讨会。为便利我国产业界更好了解中日两国知识产权法律制度和审查举措，受国家知识产权局委托，协会将组织企事业单位报名参会，现将有关事项通知如下：

一、会议主题及议程

本次研讨会将聚焦中日两国知识产权法律制度的最新动向和中日两局用户友好型专利审查举措两个议题，具体议程见附件1。

二、参会人员

中日两局相关工作人员、两国企事业单位知识产权相关工作人员等。

三、时间、地点

时间：2023年11月2日（星期四）下午13:30-17:00（日本时间）

地点：日本特许厅JPO 16层特别会议室

四、报名及报到事项

请拟参会人员填写报名表（见附件2）并于10月23日前发送至协会邮箱（wangwei@ppac.org.cn）。名额有限，报满即止。

特此通知。

附件：1. 第10次中日知识产权制度研讨会议程（草案）

2. 第10次中日知识产权制度研讨会报名表

                          中国专利保护协会

                          2023年10月19日

联系人：王伟

电  话：010-62159161，18510255731

邮  箱：wangwei@ppac.org.cn